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聚焦離子束分析（FIB）
所屬分類
成分分析
產品描述
1、聚焦離子束技術（FIB）
聚焦離子束技術（Focused Ion beam，FIB）是利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的離子束轟擊材料表面，實現材料的剝離、沉積、注入、切割和改性。隨著納米科技的發(fā)展，納米尺度制造業(yè)發(fā)展迅速，而納米加工就是納米制造業(yè)的核心部分，納米加工的代表性方法就是聚焦離子束。近年來發(fā)展起來的聚焦離子束技術（FIB）利用高強度聚焦離子束對材料進行納米加工，配合掃描電鏡（SEM）等高倍數電子顯微鏡實時觀察，成為了納米級分析、制造的主要方法。目前已廣泛應用于半導體集成電路修改、離子注入、切割和故障分析等。
2. 聚焦離子束技術（FIB）可為客戶解決的產品質量問題
（1）在IC生產工藝中，發(fā)現微區(qū)電路蝕刻有錯誤，可利用FIB的切割，斷開原來的電路，再使用定區(qū)域噴金，搭接到其他電路上，實現電路修改，最高精度可達5nm。
（2）產品表面存在微納米級缺陷，如異物、腐蝕、氧化等問題，需觀察缺陷與基材的界面情況，利用FIB就可以準確定位切割，制備缺陷位置截面樣品，再利用SEM觀察界面情況。
（3）微米級尺寸的樣品，經過表面處理形成薄膜，需要觀察薄膜的結構、與基材的結合程度，可利用FIB切割制樣，再使用SEM觀察。
3. 聚焦離子束技術（FIB）注意事項
（1）樣品大小5cm,5cm,1cm，當樣品過大需切割取樣。
（2）樣品需導電，不導電樣品必須能噴金增加導電性。
（3）切割深度必須小于50微米。
4.應用實例
（1）微米級缺陷樣品截面制備
（2）PCB電路斷裂位置，利用離子成像觀察銅箔金相。
上一個
X射線光電子能譜分析（XPS）
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X射線能譜分析（EDS）
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